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0431-81702023
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氧化铝研磨微粉

               中晶微米级氧化铝抛光粉(精抛)  官网:www.zhongyancl.com

.【产品性能】

本公司生产的TWA-1TWA-2TWA-3、TWA-5、TWA-9TWA-12TWA15氧化铝产品,采用独特的生产工艺,利用国内外先进的生产设备,通过严谨的生产流程制作而成。该产品具有以下优越性能:

晶相稳定、硬度高、颗粒小且分布均匀;

●磨削力强、抛光快、光度亮、镜面效果好;

●研磨效率高,抛光效果好,研磨效率远远高于二氧化硅等软质磨料,表面光洁度优于白刚

玉的抛光效果,切削力强、出光快

 

                    产品粒度分布 微米(μm)

 

 

规格型号

  平均粒度(D50值)

粒度目数(#)

晶型

含量%>

外观

TWA1

1.0±0.2

8000#

α

99.62%

白色粉末

TWA2

2.2±0.4

6000#

α

99.62%

白色粉末

TWA3

3.1±0.4

4000#

α

99.62%

白色粉末

TWA5

4.7±0.5

3000#

α

99.62%

白色粉末

TWA9

6.4±0.6

2000#

α

99.62%

白色粉末

TWA GF1

7.0±0.6

2200#

α

99.62%

白色粉末

TWA12

8.4±o.6

1500#

α

99.62%

白色粉末

TWA15

10.5±1.5

800#

α

99.62%

白色粉末

 

【适用范围及建议】 

①人造宝石、锆石、玻璃、天然宝石、玉石、翡翠、玛瑙、等振动抛光(机器抛光、滚动抛光)、手动抛光(研磨抛光)等。

②铝材、铜材、不锈钢、石材、玻璃、墙地砖等研磨抛光。

③金属表面抛光。

④抛光条、抛光浆、油漆表面、亚克力、不锈钢镜面、非铁金属、玉石,大理石、花冈岩、水晶等!

             

                    中晶微米级氧化铝抛光粉(中抛)

 

      半导体行业:单晶硅片、压电石英晶体、化合物半导体的研抛

 

 

半导体领域

【产品规格】

产品型号 

中值粒径D50μm

晶型

含量%>

标准(国标)

TWA 20

14.5±1.0

α

99.62

#800

TWA 15

10.2±0.8

    α

99.62

#1000

TWA 12

9.20±0.6

α

99.62

#1200

TWA 9

6.40±0.5

α

99.62

#2000

TWA GF1

7.00±0.5

α

99.62

#2500

 

【产品性能】 CA专用半导体研磨粉,韧性高,耐磨,不易造成划伤、生产时未添加化学助剂。同期和日本FUJIMI FO产品进行对比,研磨效率同期提高1.5倍,表面平坦度TTV有所提高,易于清洗。
【适用范围及建议】  精密研磨半导体单晶硅片、化合物半导体(砷化镓晶体,铌酸锂晶体等)。

                        光学玻璃、光电晶体领域

 

【产品规格】

 

 

产品型号 

晶型

中值粒径D50μm

标准

     国标准

TWA30

α

21.5±1.5

#600

W28

TWA20

     α

14.5±1.3

#800

W20

TWA15

α

10.2±0.8

#1000

W14

TWA9

α

6.4±0.6

#2000

W10

TWA5

α

4.7±0.5.5

#3000

W5

TWA3

      a

3.1±0.4

#4000

W3.5

 

 

【性能】

       TWA系列氧化铝研磨粉,其高韧性、高磨削效率,耐磨性好,同期和绿碳化硅磨料对比,其研磨效率高出1.5~2倍,且研磨加工后工件表面品质较高。
【适用范围】

       专门用于光学镜片、手机玻璃镜片、树脂镜片、手表玻璃和棱镜、光学镜头等。

 

 

 

 

 

 

                  中晶微米级氧化铝抛光粉(粗抛)

                               光学玻壳领域

 

【产品规格】

 

 

产品型号 CODE

中值粒径D50μm

     标准

国标

TWA45

35.0±2.0

#360

W50

TWA30

20.5±1.5

#600

W28

TWA20

14.5±1.0

#800

W20

 

 

【特点】

①  外观呈纯白色,韧性高,不易压碎,耐磨性好。
②  形状呈六角平板状,不容易造成划伤,悬浮性好。
③  研磨效率和传统研磨粉相比,速率高出2-3倍,且加工后产品表面平坦度好于传统磨料,并为后期抛光加工省去了不必要的麻烦。
【适用范围】

       适用于显像管玻壳、光学镜片的研磨加工。特别适合大尺寸玻壳、玻屏的研磨加工。

 

联系:冯总   18762687182  


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