摘要 投影物镜波像差在线检测技术是极紫外光刻（ＥＵＶＬ）实现３２ｎｍ 及其以下技术节点的关键技术，对于光刻机的整机集成具有重要研究意义和实用价值。介绍了目前国际上极紫外光刻投影物镜波像差在线检测技术的最新研究进展以及几种主流检测技术的原理和特点，并对其检测精度、检测速度以及动态测量范围等技术指标进行了比较分析；分析了开发投影物镜波像差在线检测设备所应解决的若干关键技术；最后，对极紫外光刻投影物镜波像差在线检测技术的发展进行了总结和展望。

关键词 光学测量；极紫外光刻；投影物镜；波像差检测

１ 引 言

      ２００７年国际半导体技术路线图（ＩＴＲＳ２００７）指出，极紫外光刻技术（ｅｘｔｒｅｍｅｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ，ＥＵＶＬ）是实现３２ｎｍ及其以下技术节点最有潜力的候选技术之一。ＥＵＶＬ投影物镜采用波长１３．４ｎｍ的曝光光源，任何材料在该波段的折射率均接近于１，而且吸收较大，需要采用真空环境和反射式光学设计［１］，在镜头加工过程中需要在基底表面镀有梯度多层膜，即使不考虑膜层厚度误差以及膜层材料折射率误差，也会不可避免地导致色差［２］。所以，工作在短波段的 ＥＵＶＬ投影物镜的波像差由设计残差、反射镜基底的面形加工精度、多层膜的特性和集成装调共同决定，必须利用工作波长进行在线检测［３］。

       产业化 ＥＵＶＬ 设 备 的 投 影 物 镜 通 常 为 ４ 或６个镀有 多 层 膜 的 非 球 面 反 射 镜 系 统，为 了 满 足３２ｎｍ以下技术节点的曝光要求，投影物镜系统的波像差要求控制在均方根（ＲＭＳ）０．０３λ之内，相当于０．４５ｎｍ［４］。美 国 ＬａｗｒｅｎｃｅＢｅｒｋｅｌｅｙ ＮａｔｉｏｎａｌＬａｂｏｒａｔｏｒｙ（ＬＢＮＬ）完 成 了 数 值 孔 径 ０．３ 的 ＭＥＴ投影 物 镜 工 作 波 段 装 调，装 调 后 波 像 差 为 ＲＭＳ０．０４λ，约为０．５５ｎｍ［５～８］。日本 Ｎｉｋｏｎ完成了面向４５ｎｍ 动态随机存储器（ＤＲＡＭｓ）以及３２ｎｍ 微处理器的产业化 ＥＵＶＬ设备 ＥＵＶ１［９］，其投影物镜由６面非球面反射镜组成，全视场波像差的平均值达到了 ＲＭＳ０．６ｎｍ。

      ＥＵＶＬ投影物镜极为苛刻的波像差容限对光学设计、加工和集成装调提出了空前的要求。高精度、工作波长的波像差检测设备研制成为开发高分辨ＥＵＶＬ投影物镜的关键问题，设备的波像差检测精度要高达前所未有的 ＲＭＳ０．１ｎｍ［４］。美国、日本等国家在２０世纪９０年代就开展了专用检测设备的研发，本文介绍国际相关机构在该领域的最新进展，探讨开发ＥＵＶＬ投影物镜波像差在线检测专用设备的若干关键技术，并对研究的发展方向进行展望。

２ ＥＵＶＬ 投影物镜波像差在线检测技术研究现状

      美国ＬＢＮＬ早在１９９３年就开展了ＥＵＶＬ投影物镜波像差在线检测专用设备的研究，开发出了集成 相 移 点 衍 射 干 涉 仪 （ｐｈａｓｅｓｈｉｆｔｉｎｇ ｐｏｉｎｔｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎｉｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｅｒ，ＰＳ／ＰＤＩ）和交叉光栅横向 剪 切 干 涉 仪 （ｃｒｏｓｓ ｇｒａｔｉｎｇ ｌａｔｅｒａｌｓｈｅａｒｉｎｇｉｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｅｒ，ＣＧＬＳＩ）的检测设备，检测精度达到了 ＲＭＳ０．０５～０．１ｎｍ［１０］。到目前为止，ＬＢＮＬ 利用该设备已经完成了 Ｓｃｈｗａｒｚｓｃｈｉｌｄ，ＥＴＳ和 ＭＥＴ３种共９套 ＥＵＶ 投影物镜的在线检测和装调，数值孔径在０．０８～０．３之间，装调后投影物镜波像差分别达 到 了 ＲＭＳ０．６ｎｍ（Ｓｃｈｗａｒｚｓｃｈｉｌｄ）［１１］，ＲＭＳ０．６９ｎｍ（ＥＴＳ）［１２，１３］和 ＲＭＳ０．５５ｎｍ（ＭＥＴ）［５～８］。

    日本 在 该 领 域 的 研 究 起 源 于 ａｓｓｏｃｉａｔｉｏｎｏｆｓｕｐｅｒａｄｖａｎｃｅｄｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（ＡＳＥＴ）１９９９年开 发 的 ＰＳ／ＰＤＩ 原 理 样 机 ｉｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｒｉｃｔｅｓｔｓｔａｎｄ（ＩＴＳ）［１４］，利用波长６３２．８ｎｍ 的可见光检测数值孔径０．１的Ｓｃｈｗａｒｚｓｃｈｉｌｄ物镜，ＩＴＳ的重复检测精度达到了 ＲＭＳ０．００１８λ。２００２年日本ｅｘｔｒｅｍｅｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙｓｙｓｔｅｍｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔａｓｓｏｃｉａｔｉｏｎ（ＥＵＶＡ）接手 ＡＳＥＴ 的工作，开展极紫外波段在线检测 设 备 的 研 发。ＥＵＶＡ 开 发 的 原 理 样 机ｅｘｐｅｒｉｍｅｎｔａｌＥＵＶｉｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｅｒ（ＥＥＩ）［１５，１６］集 成了 ＰＳ／ＰＤＩ，ＣＧＬＳＩ，狭 缝 衍 射 干 涉 仪 （ｌｉｎｅｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎｄｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｅｒ，ＬＤＩ），相移横向剪切干涉 仪 （ｐｈａｓｅｓｈｉｆｔｉｎｇｌａｔｅｒａｌｓｈｅａｒｉｎｇｉｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｅｒ，ＰＳＬＳＩ），狭缝横向剪切干涉仪（ｓｌｉｔｌａｔｅｒａｌｓｈｅａｒｉｎｇｉｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｅｒ，ＳＬＳＩ），双 光 栅 横 向 剪 切 干 涉 仪（ｄｏｕｂｌｅｇｒａｔｉｎｇ ｌａｔｅｒａｌ ｓｈｅａｒｉｎｇ ｉｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｅｒ，ＤＬＳＩ）和 数 字 泰 伯 干 涉 仪 （ｄｉｇｉｔａｌ Ｔａｌｂｏｔｉｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｅｒ，ＤＴＩ）。ＥＥＩ 对 数 值 孔 径 ０．２ 的Ｓｃｈｗａｒｚｓｃｈｉｌｄ待测物镜的检测实验结果表明［１７，１８］，ＰＳ／ＰＤＩ检测精度最高，达到了 ＲＭＳ０．０７８ｎｍ；以ＰＳ／ＰＤＩ作为基准标定其他检测方法，ＬＤＩ的检测精度为 ＲＭＳ０．２４ｎｍ；ＣＧＬＳＩ的检测精度为 ＲＭＳ０．１５ｎｍ。在 ＥＥＩ对 比 各 种 检 测 方 法 的 基 础 上，ＥＵＶＡ 开发 了 用 于 ＥＵＶＬ 量 产 的 ６ 镜 投 影 物 镜（数值孔径０．２５）的波像差在线检测和装调专用设备 ＥＵＶ ｗａｖｅｆｒｏｎｔｍｅｔｒｏｌｏｇｙｓｙｓｔｅｍ（ＥＷＭＳ）［１９］，ＥＷＭＳ采用了ＰＳ／ＰＤＩ，ＬＤＩ，ＤＴＩ和ＣＧＬＳＩ这４种较有潜力的检测技术。目前６镜系统的装调正在进行中，装调初始阶段，采用动态测量范围较大的 ＤＴＩ和 ＣＧＬＳＩ进行检测［２０］，６镜系统各视场点波像差为０．７１～１．６７λ 时，ＤＴＩ的 重 复 精 度 达 到 了 ＲＭＳ０．０７ｎｍ，ＣＧＬＳＩ 的 重 复 精 度 达 到 了 ＲＭＳ０．２７ｎｍ。此外，检测速度和动态范围也是检测设备的重要技术指标，表１给出了几种重要检测技术的检测精度、检测速度和动态测量范围。

２．１ ＰＳ／ＰＤＩ和 ＬＤＩ

      ＰＳ／ＰＤＩ是 Ｈ．Ｍｅｄｅｃｋｉ等［２１，２２］在１９９６年提出的，这种设计很好地解决了传统点衍射干涉仪［２３］参考光透过率较低的问题，并且增加了移相测量的功能。如图１所示，光源发出的光束经过待测物镜物面针孔滤波后，由 ＰＳ／ＰＤＩ的二元光栅分束，经过待测物镜后，携带了待测物镜波像差信息，在待测物镜像面上形成了若干个衍射级；ＰＳ／ＰＤＩ的点衍射板位于待测物镜像面，０级光通过针孔衍射形成球面参考波，１级光通过窗口携带了待测物镜波像差信息作为测试波，在 ＣＣＤ 平面形成干涉条纹；沿垂直光栅刻线的方向驱动光栅，可以在１级光中引入周期性的相移，利用多幅移相干涉图计算出待测物镜的波像差。

       ＰＳ／ＰＤＩ的重要特点是其检测精度同待测物镜的数值孔径和波像差有关。随着待测物镜数值孔径的增大，ＰＳ／ＰＤＩ针孔尺寸变小、针孔加工圆度误差增大、系统透过率下降、干涉条纹对比度降低，造成ＰＳ／ＰＤＩ 检 测 精 度 略 有 降 低［２４］。ＬＢＮＬ 采 用ＰＳ／ＰＤＩ对不同数值孔径的投影物镜检测结果表明，数值孔径０．０８～０．０８８的 Ｓｃｈｗａｒｚｓｃｈｉｌｄ，检测精度为 ＲＭＳ０．０４ｎｍ［２５］；数值孔径０．１的 ＥＴＳ，检测精度为 ＲＭＳ０．０６ｎｍ［１３］；数值孔径０．３的 ＭＥＴ，检测精度为 ＲＭＳ０．０８ｎｍ［５］。当待测物镜自身存在较大的波像差时，针孔衍射产生的球面参考波波面误差增大，同时，０级衍射光焦斑较大导致系统透过率下降，干涉条纹对比度降低乃至无法探测。因此，ＰＳ／ＰＤＩ的动态范围较小［１１］，通常用在 ＥＵＶＬ 投影物镜装调到接近衍射极限分辨率的精装调阶段。

     ＬＤＩ同 ＰＳ／ＰＤＩ原理相似，如图１所示，ＬＤＩ利用狭缝衍射在空间一维方向上产生理想波面作为参考波，参考波同窗口透过的测试波发生干涉，形成干涉条纹。由于狭缝衍射波面仅在垂直于狭缝的方向上为理想波面，所以必须进行空间正交方向上的两次测量获得待测物镜的波像差。ＬＤＩ的显著特点是采用狭缝代替针孔，避免了 ＰＳ／ＰＤＩ中针孔易被碳污染物堵塞的问题，同时系统透过率得到了明显的提高，可以有效地解决检测大数值孔径投影物镜时干涉图信噪比降低的问题［２６］。

     在ＥＵＶＬ投影物镜的初调阶段，通常采用基于剪切干涉原理的检测技术，利用其较大的动态测量范围，对投影物镜波像差进行定量检测、反馈和装调。日本ＥＵＶＡ 的研究表明［２０］，基于剪切干涉原理的检测技术，动态测量范围可以达到优于ＲＭＳ１λ，约为１４ｎｍ，而检测精度也可以达到亚纳米量级。

      ＰＳＬＳＩ采用了横向剪切干涉测量原理，如图２所示，携带投影物镜波像差信息的会聚球面波由二元光栅衍射，在像面形成多个衍射级次；级次选择掩模板遮挡其他衍射级次，两个窗口仅通过±１级衍射光，形成干涉条纹；沿垂直光栅刻线的方向驱动光栅，可以在±１级衍射光中引入周期性的相移，从而采集多幅相移干涉图。ＰＳＬＳＩ采用横向错位后的待测波面同其本身发生干涉，干涉条纹解相的结果为空间一维方向上待测波面的微分，因此需要进行正交方向上的两次测量，通过积分运算重构待测波面。

       ＰＳＬＳＩ的检测精度受剪切比计算误差、系统几何误差、移相误差、光栅加工和定位误差以及 ＣＣＤ探测 器 的 倾 斜 和 量 化 误 差 等 因 素 的 影 响。日 本ＥＵＶＡ 的仿真研究结果表明［２７］，考虑到以上几种误差源，ＰＳＬＳＩ的检测精度可以达到 ＲＭＳ０．００７λ，约为０．１ｎｍ。总体来说，剪切比越大，检测精度越高：剪切 比 为 ０．０３３ 时，检 测 精 度 可 以 达 到 ＲＭＳ０．００３λ；而剪 切 比 为 ０．０１７ 时，检 测 精 度 为 ＲＭＳ０．００５λ。日本 ＥＵＶＡ 的实验结果表明［１７］，ＰＳＬＳＩ的检测精度仅为 ＲＭＳ０．８１ｎｍ，同仿真的结果存在较大的差距。主要原因为 ＰＳＬＳＩ测量过程中需要更换光栅，完成正交方向上的两次测量，光栅的轴向定位误差 Δ犣 会造成两次测量结果中干涉条纹载波频率的偏移，通过解相运算波面重构时会导致较大的像散误差。研究表明［２６］，为了将像散误差限制在ＲＭＳ０．１ｎｍ 之 内，在 待 测 投 影 物 镜 数 值 孔 径 为０．２时，Δ犣 要小于 ２４ｎｍ。ＤＴＩ和 ＣＧＬＳＩ技术可以有效地解决这个问题，只需要进行一次测量即可完成波面重构，避免了光栅轴向定位误差 Δ犣 所导致的像散误差。

      ＤＴＩ是由 Ｔａｋｅｔａ等［２８］在１９８４年提出的，采用傅里叶 变 换 法 （ＦＴＭ）对 多 光 束 干 涉 形 成 的 泰 伯（Ｔａｌｂｏｔ）像进行频域滤波，提取波面相位。如图２所示，ＤＴＩ技术采用二维光栅替代 ＰＳＬＳＩ中的一维光栅，光栅同待测物镜像面的距离满足 Ｔａｌｂｏｔ条件时，携带待测物镜波像差信息的多束光干涉将光栅成像在 ＣＣＤ 上。ＤＴＩ利用傅里叶变换法在频域分析干涉条纹，通过两次计算分别提取 犡 方向和犢 方向的待测波面微分，再利用微分泽尼克（Ｚｅｒｎｉｋｅ）多项式拟合的方法得到 Ｚｅｒｎｉｋｅ系数表示的待测物镜波面相位。ＤＴＩ的核心思想是对 Ｔａｌｂｏｔ像的傅里叶频谱加窗进行数字滤波并提取相位，由于光栅的轴向位置必须满足 Ｔａｌｂｏｔ条件，并且相邻衍射级次的杂散光容易造成频谱混叠现象，会影响 ＤＴＩ的重复 检 测 精 度。 日 本 ＥＵＶＡ 对 数 值 孔 径 ０．２ 的Ｓｃｈｗａｒｚｓｃｈｉｌｄ物镜的装调实验表明，通过标定 ＣＣＤ倾斜误差，以及杂散光混叠误差［１９］，ＤＴＩ的检测精度可以达到 ＲＭＳ０．２ｎｍ［１８］。

      针对 ＤＴＩ所 存 在 的 问 题，ＣＧＬＳＩ 在 ＤＴＩ 和ＰＳＬＳＩ的基础上改进设计，如图２所示，在待测物镜像面上放置级次选择窗口，选择 犡 方向和犢 方向的 ±１级衍射光在 ＣＣＤ 表 面 形 成 四 光 束 干 涉 条 纹。ＣＧＬＳＩ同样采用了傅里叶变换法对干涉条纹进行频 域 加 窗 滤 波，提 取 待 测 投 影 物 镜 波 面 相 位。ＣＧＬＳＩ实质上结合了 ＰＳＬＳＩ和 ＤＴＩ的优点，采用了空域和频域的双域滤波手段，有效地抑制了相邻衍射级次杂散光对测量结果的影响，同时光栅的轴向位 置 也 不 必 受 到 Ｔａｌｂｏｔ 条 件 的 限 制。 美 国ＬＢＮＬ 对 数 值 孔 径 ０．１ 的 ＥＴＳ 物 镜 装 调 结 果 表明［２９］，ＣＧＬＳＩ的检测精度可以达到 ＲＭＳ０．０１４λ，约为０．１８ｎｍ。日本利用 ＣＧＬＳＩ对数值孔径０．２的Ｓｃｈｗａｒｚｓｃｈｉｌｄ物镜进行装调时［１８］，检测精度也能达到 ＲＭＳ０．１５ｎｍ，充分验证了 ＣＧＬＳＩ的检测精度。

      与以上检测技术采用横向剪切干涉不同，ＤＬＳＩ的光路中采用位于待测物镜的共轭面上两个光栅，利用各级次衍射光之间传播方向不同，产生剪切干涉条纹。如图３所示，照明系统的出射光束由光栅Ｇ１衍射，待测物镜物面的级次选择窗口 Ｍ１使０级和＋１级衍射光通过，经过投影物镜后携带了投影物镜波像差信息；由于光栅 Ｇ２位于 Ｇ１ 的共轭面上，Ｇ１的０级和＋１级衍射光在 Ｇ２处完全重叠，使得照明系统所导致的像差完全抵消，因此 ＤＬＳＩ不需要物面针孔滤波，可以极大地提高系统的透过率；Ｇ１的０级光通过 Ｇ２衍射后的＋１级衍射光，同 Ｇ１的＋１级光通过 Ｇ２衍射后的０级衍射光，在投影物镜像面焦点位置完全重合，利用级次选择窗口 Ｍ２仅使这两束光通过；由于两束光焦点位置完全重合，仅是传播方向不同使得波面错位，因此干涉条纹不包含载波频率，降低了测量对振动的敏感性，同时摆脱了密集条纹对 ＣＣＤ采样频率的限制，有利于采用移相法提高解相计算的精度［３０］。ＤＬＳＩ同样需要正交方向上的两次测量，得到空间二维方向上波面微分，通过积分运算重构待测波面；测量过程中，可以沿垂直光栅刻线方向移动 Ｇ１或 Ｇ２采集多幅相移干涉图，采用移相法分析干涉条纹。

     目前 ＤＬＳＩ技术正处于研发阶段，日本 ＥＵＶＡ也提出了一些标定 ＤＬＳＩ系统误差的方法［３１］。但是同 ＰＳ／ＰＤＩ的检测结果对比实验表明，ＤＬＳＩ检测精度较低，主要是由于照明系统的像差所导致的［３１］，目前 ＤＬＳＩ的检测精度可以达到 ＲＭＳ０．９６ｎｍ［１７］。

     对比以上几种检测技术可以看出，ＥＵＶＬ 投影物镜波像差在线检测专用设备应具备的特点包括：高精度、大动态范围、利用曝光光源检测。另外，为了满足良 率 和 产 量 的 要 求，检 测 设 备 必 须 集 成 在ＥＵＶＬ光刻机 中，实 现 投 影 物 镜 波 像 差 的 定 期 检测、快速检测和实时校正。因此，ＥＵＶＬ 投影物镜波像差 在 线 检 测 设 备 研 制 应 解 决 以 下 几 个 关 键技术。

      １） 高精度的光学干涉测量技术

      目前的 ＥＵＶＬ投影物镜波像差在线检测技术，无一例外地采用了光学干涉测量技术。光学干涉测量技术作为一种精密、有效的计量测试技术，是进行高分辨成像系统波像差检测的重要手段，具有高精度、高灵敏度、快速、非接触等优点。然而，ＥＵＶＬ投影物镜波像差的在线检测高精度、高集成度、利用曝光光源等特点，使得众多传统的干涉仪如泰曼格林（ＴｗｙｍａｎＧｒｅｅｎ）、斐索 （Ｆｉｚｅａｕ）、萨 瓦 （Ｓａｖａｒｔ）等失去了作用，因此适用 ＥＵＶＬ的干涉测量技术需要具备以下特点：（１）由于缺乏高精度的极紫外波段在线面形检测设备，所以一般不采用标准镜；（２）由于需要极紫外波段的在线检测，所以避免采用折射式的光学元件，一般采用衍射光学元件；（３）极紫外光源较 差 的 相 干 性，要 求 必 须 共 路 干 涉；（４）嵌 入ＥＵＶＬ曝光系统在线检测的要求，使得干涉仪的结构应简化，便于系统集成；（５）高精度的检测要求，使得干涉仪结构参数优化和高精度系统误差标定技术的研究成为重点。

      ２） 干涉图像处理技术

     干涉图像处理是光学干涉测量中的关键技术，直接决定着干涉测量的精度和速度。干涉图像处理的一般步骤包括预处理、相位提取、相位展开和波面拟合。在实际应用过程中，应根据干涉测量原理、测量误差补偿、干涉图区域形状、干涉条纹形状、疏密程度和对比度等特点，采用相应的干涉图像处理方法，以提高解相计算的精度和速度。难点是剪切干涉图像的处理，其波面重构精度不仅受波面相关性、噪声等的影响，与剪切比也有一定联系，在干涉仪设计时应协同考虑。

      ３） 干涉仪关键器件的制备

       干涉仪关键器件的制备需要采用微细加工技术，加工误差直接影响干涉仪的检测精度。例如，检测数值孔径０．２５以上投影物镜的 ＰＳ／ＰＤＩ针孔直径一般小于５０ｎｍ［５］，一般采用聚焦离子束刻蚀厚度约为１５０ｎｍ 的镍（Ｎｉ）或钽（Ｔａ）等金属薄膜制备［１６］，需要严格控制工艺以减小侧壁角。目前适用于极紫外波段的衍射光学元件都为振幅型器件，能够提高干涉仪性能的相位型衍射元件的制备工艺也是目前的研究方向［３２］。

      除了以上提及的关键技术之外，极紫外的高真空腔体、碳污染物吹扫、高精密隔振等一系列实验环境控制问题也不可忽视。总之，ＥＵＶＬ 投影物镜波像差在线检测设备的研发任重道远，学科交叉性强，需要各种技术和工艺水平的共同提高。

      介绍了 ＥＵＶＬ 投影物镜波像差在线检测技术的最 新 研 究 进 展，主 要 有 ＰＳ／ＰＤＩ，ＬＤＩ，ＣＧＬＳＩ，ＤＴＩ，ＰＳＬＳＩ和 ＤＬＳＩ６种检测技术和仪器。检测精度最高的是 ＰＳ／ＰＤＩ（ＲＭＳ０．０４～０．０８ｎｍ），通常用 ＰＳ／ＰＤＩ 来 标 定 其 他 技 术 的 检 测 精 度。 但 是ＰＳ／ＰＤＩ的动态测量范围较小（ＲＭＳ０～１ｎｍ），检测速度相对较慢（全视场检测时间４０ｍｉｎ），并且当待测物镜自身像差较大时，ＰＳ／ＰＤＩ检测精度有所下降。ＰＳＬＳＩ，ＤＬＳＩ和 ＣＧＬＳＩ具有较大的动态测量范围（ＲＭＳ０～１４ｎｍ）和较快的检测速度（全视场检测时间２０ｍｉｎ），检测精度受待测物镜自身像差影响较小，很好地弥补了 ＰＳ／ＰＤＩ的不足。

      目前，利用数值孔径０．２～０．３的 ＥＵＶＬ 投影物镜可以实现３２ｎｍ 乃至２２ｎｍ 光刻技术，ＰＳ／ＰＤＩ的检测精度可以达到 ＲＭＳ０．０８ｎｍ，完全可以满足检测精度的要求；基于剪切干涉原理的 ＣＧＬＳＩ技术，弥补了 ＰＳ／ＰＤＩ动态测量范围小，检测速度相对较慢 的 缺 点，并 且 具 备 较 高 的 检 测 精 度 （ＲＭＳ０．１５ｎｍ）。通常，在 ＥＵＶＬ 投影物镜 的 装 调 过 程中，首先采用刀口检验等定性检测手段完成粗调；在微调的初始阶段，采用动态测量范围较大的 ＣＧＬＳＩ技术，将投影物镜波像差控制在 ＲＭＳ１ｎｍ 以内；最后，采用 ＰＳ／ＰＤＩ完成高精度的检测和精调。

      ＥＵＶＬ 进 一 步 发 展 到 １６ ｎｍ 技 术 节 点，ＰＳ／ＰＤＩ技术中针孔直径需要达到１６ｎｍ 左右，此时对于 ＰＳ／ＰＤＩ技术而言，存在着针孔的加工圆度误差、针孔对准、系统透过率以及干涉条纹对比度降低等一系列难题，需要探索更合适的检测方法和技术。如果能进一步提高检测精度，ＬＤＩ技术将是一种有潜力的候选技术。